真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子槍加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

　　真空鍍膜機(jī)就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車(chē)燈鍍膜機(jī)廠(chǎng)家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。

　　(1)真空鍍膜對(duì)環(huán)境的要求。

　　加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。

　　基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠(chǎng)家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。

　　對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至最小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

　　清除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴(kuò)散泵返油，對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須采取擋油措施。

　　(2)鍍層與鍍膜的基本原理

　　A、原材料與基本原理：

　　原材料都是樹(shù)脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調(diào)和，乳化出來(lái)的狀態(tài)就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實(shí)現(xiàn)。這些物質(zhì)經(jīng)乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。

　　B、它們的特點(diǎn)和區(qū)別：

　　鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒大小)，表面光滑度更優(yōu)，對(duì)漆面較多“毛細(xì)孔"、粗糙、重噴過(guò)漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車(chē)系漆面比較適用。

　　鍍膜：而鍍膜產(chǎn)品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠(chǎng)家使其瞬間成膜，性質(zhì)相應(yīng)的發(fā)生了改變。